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怎么申请集成电路布图设计
来源: | 作者:广州凯东知识产权官网 | 发布时间: 2024-11-25 | 93 次浏览 | 分享到:


申请集成电路布图设计专有权,需要遵循一定的流程和提交必要的申请材料。以下是详细的申请步骤和所需材料:


一、申请条件

申请人应至少具备下列条件之一:

  1. 中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计。

  2. 外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的。

  3. 外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的。

二、申请材料

  1. 集成电路布图设计登记申请表:

    • 写明申请人的姓名或名称、地址或居住地、国籍、布图设计的名称、布图设计创作者的姓名或名称、布图设计的创作完成日期、该布图设计所用于的集成电路的分类等信息。

    • 如果申请人委托了专利代理机构,还需要注明有关事项;如果未委托,则需要提供联系人的姓名、地址、邮政编码及联系电话。

  2. 集成电路布图设计的复制件或图样:

    • 应附上图样的目录,并说明每页图纸的图层名称。

  3. 简要说明:

    • 说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。

  4. 申请人身份证明:

    • 如果以个人名义申请,提供身份证正反面复印件。

    • 如果以公司名义申请,提供盖章的营业执照副本复印件。

  5. 集成电路样品(如适用):

    • 如果布图设计在申请日之前已投入商业利用,应提交4件含有该布图设计的集成电路样品。所提交的样品应当置于专用器具中,器具表面应当贴上标签,写明申请人的姓名和集成电路布图设计名称。

  6. 光盘(可选):

    • 光盘内存有该集成电路布图设计图样的电子文件。光盘表面应当写明申请人的姓名和集成电路布图设计名称。

  7. 保密信息(如适用):

    • 如果集成电路布图设计在申请日之前没有投入商业利用,该布图设计登记申请可以有保密信息,其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或图样纸件应单独提交,并置于保密文件袋中。

三、申请流程

  1. 确认材料无误:

    • 确保所有申请文件齐全、格式符合要求,并且内容真实、准确。

  2. 选择提交方式:

    • 申请人可以采用电子申请或纸件申请两种方式。

    • 如果采用电子申请方式,可以登录集成电路布图设计电子申请平台进行办理。

    • 如果采用纸件申请方式,则需要将申请文件交到国家知识产权局专利局或其代办处。

  3. 缴纳费用:

    • 在提交申请时或收到缴费通知书后,申请人需要缴纳集成电路布图设计登记费和印花税。

    • 登记费为每件1000元,印花税为5元。

    • 申请人应在收到缴费通知书之日起2个月内缴纳费用,期满未缴纳或未缴足的,该登记视为撤回。

  4. 初步审查:

    • 国家知识产权局会对申请文件进行初步审查,检查申请材料是否齐全、格式是否符合要求,以及是否存在形式缺陷。

    • 如果申请文件符合受理条件且未发现形式缺陷,审查员会发出受理通知书和缴费通知书。

    • 如果申请文件符合受理条件但存在形式缺陷,审查员会发出受理通知书和补正通知书,要求申请人在规定期限内提交补正材料。

    • 如果申请文件不符合受理条件,审查员会发出不受理通知书。

  5. 补正(如有):

    • 如果申请文件存在形式缺陷,申请人需要按照补正通知书上的要求,在规定期限内提交补正材料。

  6. 发出登记证书:

    • 缴费成功后,国家知识产权局会发出集成电路布图设计登记证书。整个登记周期约为三个月。

    • 如果申请文件不存在形式缺陷,自申请人提交文件后大约一个半月能收到受理通知书,自申请人缴费成功后大约一个半月能收到登记证书。

  7. 公告:

    • 集成电路布图设计登记证书发出后,国家知识产权局会进行公告。

    • 公众可以请求查阅该布图设计的图纸(但不能复制),但需提前预约并遵守相关规定。

四、后续事项

  1. 著录项目变更:

    • 如果集成电路布图设计的著录项目(如申请人姓名、地址、代理机构等)发生变化,申请人可以向国家知识产权局提交著录项目变更请求,并缴纳著录事项变更手续费。

  2. 放弃专有权:

    • 布图设计权利人在其布图设计专有权保护期届满之前,可以向国家知识产权局提交书面声明放弃该专有权。

    • 如果布图设计专有权已许可他人实施或已出质,放弃专有权应征得被许可人或质权人的同意。

  3. 保护期限:

    • 集成电路布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算(以较早日期为准)。

    • 但无论是否登记或投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后将不再受保护。

  4. 及时申请:

    • 布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,国务院知识产权行政部门将不再予以登记。

建议申请人在申请前仔细阅读相关规定和指南,并咨询专业律师或知识产权代理机构的意见。需要专利申请,可以向凯东张小姐咨询——19830704689(微信同号)