申请集成电路布图设计专有权,需要遵循一定的流程和提交必要的申请材料。以下是详细的申请步骤和所需材料:
一、申请条件
申请人应至少具备下列条件之一:
中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计。
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的。
外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的。
二、申请材料
集成电路布图设计登记申请表:
集成电路布图设计的复制件或图样:
简要说明:
申请人身份证明:
集成电路样品(如适用):
光盘(可选):
保密信息(如适用):
三、申请流程
确认材料无误:
选择提交方式:
缴纳费用:
初步审查:
国家知识产权局会对申请文件进行初步审查,检查申请材料是否齐全、格式是否符合要求,以及是否存在形式缺陷。
如果申请文件符合受理条件且未发现形式缺陷,审查员会发出受理通知书和缴费通知书。
如果申请文件符合受理条件但存在形式缺陷,审查员会发出受理通知书和补正通知书,要求申请人在规定期限内提交补正材料。
如果申请文件不符合受理条件,审查员会发出不受理通知书。
补正(如有):
发出登记证书:
公告:
四、后续事项
著录项目变更:
放弃专有权:
保护期限:
及时申请:
建议申请人在申请前仔细阅读相关规定和指南,并咨询专业律师或知识产权代理机构的意见。需要专利申请,可以向凯东张小姐咨询——19830704689(微信同号)